产品名称：无掩模光刻机

产品型号：ABN-MLM-001

产品简介：无掩膜光刻系统利用计算机生成的数字掩模图形，并通过声光调制器（AOM）输出，经过声光扫描器和反射镜将光束引导至光学投影系统。系统将高精度、强度可调的激光束投射到晶圆或掩模板的表面，实现对抗蚀材料的可变剂量曝光。激光束根据预设的设计图形直接对基片表面进行曝光，显影后在抗蚀层上形成所需的图案。这种技术无需传统的物理掩模，因此大大缩短了制作周期，同时降低了设计和生产成本。尤其是在快速迭代设计的场景中，显现出极大的灵活性和效率。通过计算机控制，可以实现亚微米级别的精确加工，适用于微纳米结构制造。

无掩膜光刻技术广泛应用于以下领域：

· 大规模集成电路（IC）掩模版制作：实现高精度、快速迭代的掩模版设计与制作。

· 微纳加工：适用于MEMS（微机电系统）元件的精密图形写入。

· LED产业：在高精度LED芯片设计与制造中具有重要作用。

· 生物芯片：用于生物芯片中微结构的快速成像与制备。

相较于传统掩膜光刻技术，无掩膜光刻系统具有更高的灵活性、更短的开发周期以及更低的运营成本，使其成为现代微纳制造中的重要工具之一。

设备技术指标：
•工作波长：405 nm
• 激光功率：最大300mW
• 分辨率：0.3 μm
• 对准精度：正面0.1μm（1mm图形范围内)，背面1um(2.5寸)
• 扫描速度：3-150 mm2/min
• 样品尺寸：最大 8英寸
• 具有灰度曝光功能