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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)品簡介：TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀，利用光學(xué)干涉原理，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜，快速準(zhǔn)確測量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等信息
詳細介紹
產(chǎn)品簡介：TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀，利用光學(xué)干涉原理，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜，快速準(zhǔn)確測量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等信息。反射膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種介質(zhì)保護膜、有機薄膜、無機薄膜、金屬膜、涂層等薄膜測量。
產(chǎn)品型號 | TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀 | ||
主要特點 | 1、光學(xué)薄膜測量解決方案 2、非接觸、非破壞測量 3、覆蓋單層到多層薄膜 4、核心算法覆蓋薄膜到厚膜 5、配置靈活、支持定制化 6、采用高強度鹵素?zé)艄庠?，光譜覆蓋可見光到近紅外范圍 7、采用光機電高度整合一體化設(shè)計，體積小，操作簡便 8、基于薄膜層上界面與下界面的反射光相干涉原理，輕松解析單層薄膜到多層 9、配置強大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲線擬合分析法分析薄膜的物理參數(shù)信息 | ||
技術(shù)參數(shù) | 型號 | TFMS-IV | TFMS-IV（可選） |
基本功能 | 獲取薄膜厚度值以及R、N/K（可選）等光譜 | ||
光譜波長范圍 | 380-800nm | 650-1100nm（可選） | |
測量厚度范圍 | 50nm-20um | 100nm-200um（可選） | |
測量時間 | <1s | ||
光斑尺寸 | 0.5-3mm | ||
重復(fù)精度 | 0.1nm（100nmSiO2/Si） | ||
精度 | ±1nm or 0.5% | ||
入射角方式 | 垂直入射 | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺 | |
2 | Mapping擴展模塊 | ||
3 | 真空泵 | ||