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写真化学通过光学干涉法计算测厚仪
  • 写真化学通过光学干涉法计算测厚仪

货物所在地:北京北京市

地: 日本

更新时间:2024-11-02 16:18:09

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写真化学通过光学干涉法计算测厚仪

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    • 在显微镜视场中测量任意区域的薄膜厚度和薄膜质量分布
      ,并以 3D 形式显示分布

    • 薄膜厚度分布的原位可视化



    • 分辨率与可见光波长光学涂层测厚仪相当

    • 波长范围从 450 nm 到 750 nm,可以 1 nm 的增量

    • 膜厚测量分辨率:0.1 nm 或更小



    • 使用与反射膜厚度监视器相同的计算引擎进行并行计算

    • 高速、多层同时测量 9 层

    • 应用实例

    1. (1) 数百层重复层压薄膜和沟槽等复合结构

    2. (2) 用 EMA(有效介质近似)法估计亚微米图案的密度

    3. (3) 局部结晶度评估


    • 您可以根据工件和应用选择物镜

    • 通过物镜和面积规格测量任意面积的膜厚分布


    这是一种可以通过显微图像光谱可视化透明多层膜的膜厚分布的膜厚计。
    由于薄膜厚度是通过光学干涉法计算的,因此
    薄膜厚度分布可以以 0.1 nm 或更低的分辨率以 3D 形式显示。

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