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写真化学厚度监视器评估多晶硅的结晶度
  • 写真化学厚度监视器评估多晶硅的结晶度

货物所在地：北京北京市

所在地： 日本

更新时间：2024-11-02 14:44:31

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反射涂层厚度监测仪是一种光学干涉反射光谱涂层测厚仪，它使用微型反射探头，可应用于从实验室级别到生产过程中的在线检查的所有情况。 它具有出色的可维护性，可用于集成到工艺设备和生产线管理应用中。

反射涂层厚度监测仪是一种光学干涉反射光谱涂层测厚仪，它使用微型反射探头，可应用于从实验室级别到生产过程中的在线检查的所有情况。 它具有出色的可维护性，可用于集成到工艺设备和生产线管理应用中。
最多可同时测量 9 种类型的透明膜。
它具有出色的可维护性，可用作工艺设备或生产线管理应用的集成。
例如，在沉积、抛光和蚀刻过程中，它可以用作在线监视器或终点监视器（终点检测传感器），从而实现薄膜厚度的实时监控（实时监控）。
它还可用于评估多晶硅的结晶度和多孔薄膜的密度。

  • 多晶硅结晶度的评价

  •  

  • 多孔膜的密度评估

  •  

  • 使用旋涂机进行终点检测的视频



    • 微型光纤探头

    • 通过采用高度为 30 mm 的小探头，它可以安装在设备的狭小空间内。


    • 膜厚测量再现性：0.1 nm 或更小 （3σ）


    • 同时测量多层薄膜，9 层


    • 通过有效介质近似 （EMA） 方法计算混合层的混合速率，并测定结晶度

    • 光学常数分析

    • 膜质量分析功能



    • 可根据用途选择的光源


    • 自动映射测量（可?。? _mstalt=

    • 操作示例1：Endpoint Monitor
      的Demo 1操作示例2：Endpoint Monitor的Demo 2


    • 自动映射测量（可?。? _mstalt=

推荐环境条件

温度： 设定点在 18 ~ 45°C 范围内
长期变化： ±2.0°C/24 小时或更长时间（参考设定点）
短期变化： ±1.0°C/1 小时×1 周期（参考设定点）
湿度：45% ± 20%（无冷凝）



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