SS-LCL-4  光學非線性測量儀

儀器簡介：

光學非線性測量儀，主要采用激光Z掃描技術(shù)，同時考慮飽和光譜測量方法,光限制測量方法及其光模式傳輸測量等技術(shù),綜合考慮設計而成,其光路簡單（采用單光束），測量靈敏度高，可同時測量樣品的非線性折射率和非線性吸收系數(shù)及光斑信息和光學限制效應等。本儀器采用多種光信號測量探測器（光電倍增管、硅光電池、CCD等），可用脈沖激光、連續(xù)激光等作為光源，光電信號既可用儀器本身電箱測量，還可以外接積分器和鎖相放大器等，實現(xiàn)計算機（Windows 多檔畫面）自動控制和測試，并配有多種附件，適用于液體、固體樣品的測量。儀器結(jié)構(gòu)新穎、價格適中、功能完善，適合各高等院校教學和科研的需求.

實驗原理和內(nèi)容：

1、學習和掌握激光Z掃描技術(shù)

2、直接測量開孔、閉孔及光斑信息、同時測量非線性折射性折射率和非線性吸收系數(shù)

3、利用多種光信號探測器和軟件系統(tǒng)以及附件，測量液體、固體樣品。

主要配置和參數(shù)：

1、Z掃描范圍： -50mm～+50mm  

2、采樣間隔 ：0.1 mm,0.2mm,0.5mm，1mm ,2mm,5mm

3、接 收 器： 光電倍增管 CR114，SP≥300,IDB, ≤5,R/W≥200、硅光電池： 、CCD                    

4、橫坐標擴展 ：任選；縱坐標擴展：任選

5、測量模式 :二 種  （透過率、能量）

6、掃描速度 :三 檔  （快、中 、慢）

7、掃描方式 ：連續(xù)、重復、時間掃描

8、電    源 ：AC220V　50Hz

9、數(shù)據(jù)處理：光譜背景基線記憶、光譜數(shù)據(jù)平滑運算、光譜數(shù)據(jù)累加運算、光譜數(shù)據(jù)四則運算、光譜數(shù)據(jù)微分運算。

10、設備尺寸：585*268*185mm

11、光學元件：分束器5:5、透鏡F=150、F=100、F=50、F=15、F=225、平面反射鏡：鍍膜30*5。

12、氦氖激光器：帶布魯斯特角，尺寸270mm;功率：≥1.2mw。

13、光學元件BK7 A精密退火材料，焦距±2%，直徑-0.2mm，中心偏差3′，光圈1-5；局部誤差為0.2-0.5，面粗糙度60/40（Scratch/Dig），氟化鎂增透膜鍍膜

14、精密機械調(diào)整架：角度精度±4′，分辨率0.005mm，調(diào)節(jié)機構(gòu)保證等雙軸等高，橫向偏差1′，縱向偏差1′