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RIGAKUT日本理学WaferX 310 系列 用于薄膜评估的 X 射线荧光光谱仪

时间:2025/4/23阅读:280
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WaferX 310 系列

用于薄膜评估的 X 射线荧光光谱仪

波长色散 X 射线荧光光谱仪 (WD-XRF) 可以无损、非接触式方式同时分析 300 mm 和 200 mm 晶圆上各种薄膜的厚度和成分。

这是一种波长色散 X 射线荧光光谱仪 (WD-XRF),可以无损、非接触的方式同时分析 300 mm 和 200 mm 晶圆上各种薄膜的厚度和成分。 它与 GEM300 兼容,并支持 300mmFab 的在线规格。 XYθZ 驱动式样品台可准确分析各种金属膜,避免了衍射线的影响。 使用 4kW 高功率 X 射线管可以测量痕量元素。 此外,通过安装高灵敏度硼检测器,可以高精度地分析超轻元素,例如 BPSG 薄膜中的硼分析。 它是同类产品中第一个配备样品高度校正功能和自动校准(全自动日常检查和强度校正功能)的仪器。


WaferX 310 在线同步 WDXRF 光谱仪


WaferX 310 规格

产品名称WaferX 310 系列
技术波长色散 X 射线荧光光谱法 (WD-XRF)
晶圆上 300 mm、200 mm 以及各种薄膜厚度和成分
科技4 kW 高功率 X 射线源,通过工厂自动化处理 WDXRF
主要组件多达 21 个通道,固定类型(?Be 到 ??U),扫描类型(??Ti 到 ??U),CE 标志,GEM-300,SEMI S2/S8
选择300 mm 工厂自动化
控制 (PC)内部 PC、MS Windows®作系统
本体尺寸1200 (宽) x 1950 (高) x 2498 (深) 毫米
质量1166 kg(主机)
权力三相 200 VAC 50/60 Hz,50 A



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