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HWN-P1500纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P1000、P...激光直写技术 参考价:面议
激光直写技术采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于各种受体...纳米激光直写 参考价:面议
纳米激光直写是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系...HWN-P纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P1000、P1500...HWN-L纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-L纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器...纳米光电子设备 参考价:面议
纳米光电子设备采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于各种受...纳米激光直写系统型号 参考价:面议
纳米激光直写系统型号是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产...新型纳米激光直写系统 参考价:面议
新型纳米激光直写系统采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于...HWN-L8新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-L8新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量...HWN-L6新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-L6新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量...HWN-L4新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-L4新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量...HWN-L2新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-L2新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量...HWN-L1新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-L1新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量...HWN-P1500-1500新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500-1500新型纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、...HWN-P1500-1000新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500-1000新型纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、...HWN-P1500-800新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500-800新型纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P...HWN-P1500-500新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500-500新型纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P...HWN-P1500-200新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500-200新型纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P...HWN-P1500-100新型纳米激光直写系统 参考价:面议
HWN-P1500-100新型纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P...