电子背散射衍射(EBSD)技术是一种基于扫描电子显微镜的强大晶体学分析工具,可用于晶粒取向鉴定、相鉴定、晶界识别、织构分析、应力和应变分析,晶粒大小和形态分析,动态过程研究,三维晶体分析等。
现代EBSD技术在20世纪90年代初取得了商业化突破并成功进入市场,经过三十多年的发展,EBSD的广泛应用还面临一些挑战,包括工作流程复杂,分析敏感材料困难,需要有经验的技术人员参与等,为了应对这些挑战并使EBSD技术更加普及,赛默飞世尔科技重磅推出Thermo Scientific™ TruePix™ EBSD探测器,这是一款集高速与高灵敏度为一体的直接电子探测器。TruePix探测器与Apreo ChemiSEM扫描电子显微镜和TrueSight能谱仪工作流程无缝配合,一体化地实现形貌观察、元素分析以及晶体学分析。
产品介绍
TruePix EBSD是一款搭配在Apreo ChemiSEM扫描电镜上的混合像素直接电子探测器,直接电子探测器像素尺寸为256 x 256,TruePix探测器的发布实现了在同一个计算机平台上进行SEM、EDS和EBSD测试,无需外部电子束控制或电脑间的通讯连接,即可实现快速安全操作,最高可实现采集速度2000pps。
TruePix探测器采用了混合像素直接电子探测器, 由于直接电子探测器能够直接记录电子信号,而不需要中间的磷光屏或光学传输,从而减少了信号损失,因此具有更高的探测效率。
TruePix直接电子探测器
TruePix混合像素探测器由256x256像素点组成。每个像素点都有独立的电路,且能进行单电子计数,直接电子探测器相比传统的背散射电子衍射仪有以下主要优势:
集成一体化
此外,赛默飞推出的TruePix探测器的发布使得SEM与EBSD探测器、后期图像处理软件能整合在同一平台,带来更便捷的操作和更好的用户体验。
TruePix EBSD在不同的WD和DD下都有很高的标定率
赛默飞提供EBSD样品制备、EBSD采集、
数据处理一系列完整的工作流程
EBSD样品制备的质量直接影响数据的准确度和标定率。EBSD花样采集过程中,衍射信号来自样品表面以下几十纳米的深度范围,用于EBSD测试的样品需表面平整、清洁且没有残余应力,否则会影响衍射花样的采集以及EBSD的后续分析。常见的用于EBSD样品制备的方法有机械抛光、电解抛光、FIB样品制备及氩离子抛光。其中氩离子抛光是一种样品适用性高的方法,赛默飞世尔科技推出的CleanMill氩离子抛光仪能与Apreo ChemiSEM以及TruePix EBSD集成在一个工作流程中,即使对于空气敏感样品和电子束敏感样品也能轻易解决其痛点。
应用案例
TruePix EBSD适用于各类金属、合金、陶瓷、矿物、锂电、地质、半导体、薄膜、复合材料等样品。
优势总结
TruePix EBSD直接电子探测器是一款全新的集成于SEM的一体化EBSD,它能实现快速、准确的EBSD数据分析,实现更高信噪比的数据采集。
适合电子束敏感材料分析,有单电子计数功能,实现准确电子剂量控制。
低电压性能,允许使用更小的相互作用体积进行分析,因此具有更高的空间分辨率。
灵敏度高,即使是低电子剂量下也能采集到高信噪比的信号,在镍金属上的标定速率等效于>3,000 点/秒/纳安。
高通量,可实现每秒2000点的标定速度。
更多内容,欢迎您观看TruePix EBSD直接电子探测器研讨会。
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