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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>元器件高低溫測試機>>Chiller>> LTS-202介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序

介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序

參   考   價: 156248

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號LTS-202

品       牌冠亞制冷

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地無錫市

更新時間:2025-01-16 14:36:25瀏覽次數(shù):891次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-50萬
冷卻方式 水冷式 儀器種類 一體式
應用領域 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件
【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序



無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,

?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。




【 冠亞制冷 】半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導體專溫控設備

射流式?低溫沖擊測試機

半導體專用溫控設備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風控溫裝置

半導體?低溫測試設備

電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序

介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序


  隨著科技的不斷發(fā)展,半導體行業(yè)對設備冷卻的需求日益增長,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller在半導體制造過程中發(fā)揮著作用。本文將對淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller的應用進行詳細介紹。

  1、半導體制造:在半導體制造過程中,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller被廣泛應用于冷卻芯片、晶體管等高精度、高功率器件。

  2、激光器冷卻:激光器在運行過程中會產(chǎn)生大量的熱能,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠為激光器提供穩(wěn)定的冷卻環(huán)境,保證其性能穩(wěn)定。

  3、電力電子設備冷卻:在電力電子設備中,如變頻器、電源等,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠有效地冷卻關鍵器件,提高設備可靠性。

  4、其他領域:除上述領域外,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller還廣泛應用于設備、光學儀器等領域。

淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠?qū)崿F(xiàn)溫度的準確控制,為設備提供穩(wěn)定的冷卻環(huán)境。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller結(jié)構(gòu)緊湊,體積小,適用于空間有限的場合。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller操作簡單,維護方便,降低了使用成本。


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