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設計和開發

磁性應用技術

新的磁體刻度源自磁性應用技術，是磁刻度上分辨率為 0.005 μm 的精密測量刻度。 光學刻度檢測明暗晶格透射率的變化，而磁刻度通過磁頭檢測磁性介質內部記錄的磁晶格磁通量的變化。 為了在磁尺度上獲得高分辨率，良好的磁性介質和低應變頭至關重要。

在規模方面，我們開發了高密度磁性介質，具有耐環境性，可在各種環境下使用，包括機床和工業機械。 磁頭使用 HDD 中進化的磁阻效應元件，通過*的模式設計將磁信號輸出為高靈敏度、極低失真的信號。 此外，在磁刻度上成功實現了M碼磁信號檢測的化。 頭部的信號通過專有信號校正電路消除影響精度的 D C 信號分量以及正弦和余弦信號之間的相位差和振幅不平衡，并與 M 代碼一起轉換為高分辨率、高精度的位置。

新的磁階適用于各種環境（如冷凝和油）的機床，這是光學讀取明暗晶格時無法實現的。 此外，磁垢是與鑄鐵具有相同線性膨脹系數的刻度，鑄鐵是機器的結構。 因此，即使在發生溫度變化的環境中，也能在與機器相同的溫度特性下進行拉伸，從而實現穩定、高精度的加工。

磁垢將進一步追求高精度和耐環境性能。

• 磁刻度記錄圖像

  

• 長精度測量設備

  

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