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首页>>厦门韫茂科技有限公司>>产品展示>>半导体行业专用仪器>>ALD

  • 粉末ALD厂家 参考价：面议

    粉末ALD厂家（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具...
    型号： GM10/100/... 厂商性质：生产商所在地：厦门市 对比
    粉末式原子层沉积粉末原子层沉积PALD原子层沉积系统原子层沉积
    2025/5/8 14:15:371969

  • 双腔体高真空等离子体原子层沉积系统 参考价：面议

    双腔室高真空等离子体ALD设备是对ALD技术的扩展，通过等离子体的引入，产生大量活性自由基，增强了前驱体物质的反应活性，从而拓展了ALD对前驱源的选择范围和应用...
    型号： QBT-A 厂商性质：生产商所在地：厦门市 对比
    真空等离子体等离子体ALD系统ALD系统双腔型等离子系统ALD设备
    2025/5/8 14:13:403263

  • ALD 参考价：面议

    桌面式原子层沉积系统ALD（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的...
    型号： Mini Desk... 厂商性质：生产商所在地：厦门市 对比
    ALD原子层沉积系统超小型平片原子层沉积原子层沉积ALD桌面型原子层沉积系统
    2025/5/8 14:11:592045
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