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VTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪 参考价：面议
VTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪是多功能高真空镀膜设备，含单靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介...
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化...
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜...
小型高能直流磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头（另有1英寸靶头可?。┖涂尚诽?。水冷靶头使镀膜后的样品表面...
高真空磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600GD高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
单靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、...
VTC-600G高真空磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄...
VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪 参考价：面议
VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统，包含射频电源、温控型蒸发镀膜?？?、真空系统，水冷设备，磁控溅射靶头，不锈钢...
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜...
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的Z简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导...
3靶等离子溅射仪 参考价：面议
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为Ø50...
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300?...
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的Z简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个...
溅射蒸发一体机 参考价：面议
VTC-180EVS溅射蒸发一体机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。
磁控溅射卷绕镀膜机 参考价：面议
产品简介：磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备，适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜（铜，铝等）功能性薄膜，设备采用*的磁控溅射镀膜技术，配备直流、...
VGB-600-3HD薄膜电池制备系统 参考价：面议
VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作，用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
小型粉末PVD包覆系统 参考价：面议
小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统，主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚，通过溅射在粉末表面进行包覆形成...
不锈钢弯头 参考价：面议
不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。
GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，Z大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300Å，...
四通阀 参考价：面议
四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射...
密封装置 参考价：面议
密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。
加热台 参考价：面议
加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪的样品台的加热。
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