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1.GVC-2000磁控离子溅射仪基本无温升、样品表面无热损失

   

    GVC-2000制样效果图                        其他制样设备效果图

上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片，左侧图片为GVC-2000喷金后的电镜观测图，可以看出，样品形貌真实完整，右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图片，可以看出，热损伤严重，几乎无法识别为同种样品。

溅射仪颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜。


 

                        金颗粒尺寸：6~10nm

 

陶瓷膜，镀层材料Pt，10万倍图片，无颗粒感   滤膜材料，镀层材料Pt，20万倍图片，无颗粒感

技术参数

靶材尺寸：   57mm

样品台尺寸：  65mm

样品仓尺寸：  130×120mm

GVC-2000磁控离子溅射仪特点：

1、仪器采用微处理器控制，自动化程度高精确控制、易于操作；

2、靶材利用率更高，磁控溅射靶材利用率为直流溅射的2倍,为用户节约靶材费用；

3、金膜颗粒绝大多数＜10nm，颗粒更细，均匀度更好，附着力更强，观测效果更佳；

4、低电压、较好真空度下的实现大电流溅射，可溅射金、银、铜、铂等常用金属靶材；

5、电子和负离子被磁场束缚在靶材附近，镀膜过程中基本没有温升，适用温度敏感性样品；

6、内置用户使用向导和说明书，方便用户 操作；内置膜厚估算公式，便于用户了 解离子溅射仪工作状态；

7、采用微处理器控制，扩展性能好，可实时显示真空度、溅射电流、溅射时间、设备运行时间、靶材使用时间等，方便了解设备情况，具备过流、真空?；すδ?，安全可靠。