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GVC-2000TD-高真空磁控离子溅射仪
  • GVC-2000TD-高真空磁控离子溅射仪

货物所在地:北京北京市

更新时间:2025-06-18 15:46:07

浏览次数:18

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GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪可制备各种金属、单质、无机非金属薄膜;不破真空情况下,可实现多层复合膜制备。

高真空磁控离子溅射仪


       一、GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪产品优势:

  1、可制备各种金属、单质、无机非金属薄膜;
  2、不破真空情况下,可实现多层复合膜制备;
  3、一键操作,全自动控制,智能化程度高;
  4、一致性、重复性好;
  5、内置多重靶材工作参数,无需摸索镀膜工艺;
  6、体积小,结构紧凑,非常节约空间。

  二、GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪产品参数:
外形尺寸(主机) 424(L)×345(D)×420(H) 输入电源 220V/50Hz    1000W
溅射靶头 1 直流磁控溅射 可用靶材 金属靶材
溅射靶头 2 射频磁控溅射 可用靶材 无机非金属靶材
真空系统 涡轮分子泵+旋片式真空泵 抽速 90L/s + 1.1L/s
真空测量 复合式真空规 量程范围 1E-3 ~ 1E5Pa
真空室 φ 200×130mm 高硼硅玻璃 抽气节拍 10 分钟(≤5E-3Pa
样品台尺寸 φ 90mm 样品台切换 自动控制
溅射靶材尺寸 φ 57mm(厚度 0.1-2mm 工作真空 0.1-2Pa
操作界面 7 英寸 TFT 触摸式液晶屏 操作语言 中文(可选其它语言)
冷水机 小型台式制冷机 冷水机功率 180W
预溅射挡板 标配全自动控制预溅射挡板
膜厚仪(选配) 可实时显示镀膜厚度,并通过设定来控制镀膜过程,测量精度 0.01nm,设定精度 0.1nm,单次设定范围 1-999nm
温控组件(选配) 样品台加热???span id="g8oiqosg" class="font4"> 300/500
旋转组件(选配) 倾斜旋转、行星旋转等
小车(选配) 将主机、射频电源、冷水机等组装在一起,整体性好
安装环境 220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气(出口压力 0.12MPa

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