磁控溅射是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
磁控离子溅射仪主要应用在哪些领域呢？
1、在光学领域：中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜（如减反射膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃。
2、在装饰领域的应用，如各种全反射膜和半透明膜，如手机外壳、鼠标等。
3、作为一种非热涂层技术，应用于微电子领域。各种功能膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如，在低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。
化学气相沉积（CVD）难以生长，不适合材料薄膜沉积，并且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
5、在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池和记忆合金薄膜的研究中发挥着重要作用。
6、在机械加工行业，表面功能膜、超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自诞生以来取得了长足进步，可有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而大大提高涂层产品的使用寿命。
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