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其实氧化硅抛光液的应用领域还是很广泛的
阅读：732 发布时间：2021-7-22
氧化硅抛光液在浆液中呈现稳定的空间立体网络，不触变、不凝胶，且金属离子含量控制的非常好，具有高稳定性能，悬浮性能好，不变稠，不析出晶体，不腐蚀设备、粘度小，颗粒细而均匀，不会有划痕，使用后容易清洗等优点；适合用于各种铝宝石抛光，锆宝石抛光，金属镜面抛光，如不锈钢镜面抛光，铝材镜面抛光，手机外壳镜面抛光，光学玻璃抛光，液晶显示屏抛光，半导体硅片、不锈钢、铝合金、蓝宝石等的表面抛光。
化学机械抛光(CMP)技术是目前各类显示屏、手机部件、蓝宝石、不锈钢、单晶硅片等领域使用广泛的表面超准确加工技术，研磨抛光材料是化学机械抛光过程中不可却少的一种耗材，常用的研抛材料有氧化铈、氧化硅、氧化铝和金刚石(钻石)。氧化铈主要用于玻璃晶体等抛光，金刚石与氧化铝主要用于高硬度晶体的抛光，而纳米二氧化硅抛光主要用于许多材料表面准确抛光。这几种材料往往可以搭配使用，组成研磨-抛光的理想材料。
氧化硅抛光液可广泛应用于下面这些领域：
1、可用于微晶玻璃的表面抛光加工中。
2、用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程。
4、广泛用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、准确光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工。
5、氧化硅抛光液可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材?；ひ?、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。