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氧化硅抛光液的性能特点，一看便知
阅读：1108 发布时间：2021-7-8
氧化硅抛光液是针对不同研磨材料的特性进行*的配方设计，抛光过程中，pH值基本保持不变，从而保证抛光速率的稳定，并节约抛光时间。广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如：蓝宝石材料、硅片、不锈钢、铝镁合金、化合物晶体等的抛光加工。
由于纳米二氧化硅成本相对较低，且具有良好的分散性、机械磨损性，高度度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CM P技术用的抛光材料。因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃、光导摄像管等表面准确抛光。
氧化硅抛光液的性能特点都有哪些呢？
1、均匀的球形SiO2粒子；可循环使用多次；
2、去除率高，抛光性能稳定；可选用中性或弱酸性抛光液对应。
3、精密的抛光质量，Ra＜0.2nm、TTV＜3μm；
4、有效减少抛光后的表面划伤，降低抛光后的表面粗糙度。
5、适用于35℃以下的低温抛光工艺；
6、高达到高平坦化研磨加工。
7、该抛光液由高纯纳米二氧化硅复合配置而成，通过高科技术分散成纳米颗粒，高含量分散均匀的纳米抛光液。
8、抛光速平坦度加工，抛光是利用SiO2等材料的均匀纳米粒子，不会对加工件造成物理损伤，速率快，利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的
9、高纯度，抛光液不腐蚀设备，使用的安全性能高。
氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。本产品可用于硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。