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目錄:江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司>>鍍膜機(jī)>> MS450磁控濺射鍍膜設(shè)備

磁控濺射鍍膜設(shè)備
  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備
  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 LEBO/雷博
  • 型號 MS450
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 無錫市
屬性

>

更新時間：2025-02-11 17:45:42瀏覽次數(shù)：2894評價

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1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
　　磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種先進(jìn)的物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，其核心在于利用濺射效應(yīng)將靶材原子轉(zhuǎn)移到基材表面，從而形成薄膜。濺射效應(yīng)是指當(dāng)高能離子撞擊固體表面時，靶材表面原子被擊出并散射的現(xiàn)象。
 
　　在磁控濺射過程中，首先在真空腔體中引入惰性氣體(通常是氬氣)。當(dāng)高壓電場作用于氣體時，氬氣被電離形成等離子體，這種等離子體由帶正電的離子和自由電子組成。等離子體中的高能氬離子在電場的加速下撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子被濺射出來。這些濺射出的原子隨后沉積在基材上，逐層形成所需的薄膜。
 
　　1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
 
　　2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
 
　　3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
 
　　4.主要用途：
 
　　1. 開發(fā)納米級單層、多層及復(fù)合膜層等。
 
　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 
　　3. 兩靶單獨(dú)濺射、依次濺射、共同濺射。
 
　　5.應(yīng)用領(lǐng)域：
 
　　1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
 
　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
 

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