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上海攸亦光电科技有限公司
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Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)

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具体成交价以合同协议为准

产品型号

品       牌Eksma

厂商性质代理商

所  在  地上海市

更新时间:2021-03-24 10:31:02浏览次数:1327次

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价格区间 面议 应用领域 医疗卫生,环保,化工,电子/电池,综合
组件类别 光学元件
Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)
薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想选择。

Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)


Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)

薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想选择。

薄膜偏振片以45°入射角分离或组合s偏振和p偏振分量。它们设计用于高能激光器。偏振片由UV FS制成,具有很高的激光损伤阈值,在1064 nm处达到10 J / cm2。

我们提供可在45°入射角下工作的圆形标准和高消光比(Tp:Ts:> 1000:1)偏振片。

产品型号

型号

材料

波长

尺寸

偏振效率

消光比

 

420-1242i45HE

UV FS

343 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1242i45

UV FS

343 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1512i45HE

UV FS

343 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1512i45

UV FS

343 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1252i45HE

UV FS

355 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1252i45

UV FS

355 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1502i45HE

UV FS

355 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1502i45

UV FS

355 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1244i45HE

UV FS

515 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1244i45

UV FS

515 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1514i45HE

UV FS

515 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1514i45

UV FS

515 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1254i45HE

UV FS

532 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1254i45

UV FS

532 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1504i45HE

UV FS

532 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1504i45

UV FS

532 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1248i45HE

UV FS

1030 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1248i45

UV FS

1030 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1518i45HE

UV FS

1030 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1518i45

UV FS

1030 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1238i45HE

UV FS

1053 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1238i45

UV FS

1053 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1538i45HE

UV FS

1053 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1538i45

UV FS

1053 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1258i45HE

UV FS

1064 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1258i45

UV FS

1064 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1508i45HE

UV FS

1064 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1508i45

UV FS

1064 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

 

材料

UV FS

表面质量

20-10表面光洁度(MIL-PRF-13830B)

透射波前畸变

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔径

> 90%

入射角

45°±2°

直径公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光损伤阈值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard series)

>1000:1 (for HE series)

 EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:?用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:?用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

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