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GL SR300 300mm步进式纳米压印光刻/拼版设备是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
GL SR300是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
通常纳米压印模具的加工需要利用的电子束或者激光直写技术、刻蚀技术等，加工大面积纳米压印母模具成本极其高昂，技术可行性很低。通过GL SR300步进式纳米压印技术可以将小面积纳米压印模具拼接成大面积纳米压印母模具，然后从大面积母模具可以复制大面积工作模具，用来进行大幅面压印。这种方式可以大大降低纳米压印模具成本，使得低成本纳米压印生产成为可能。
●300mm步进式紫外纳米压印
●支持从微透镜复制到整面微透镜阵列模具，用做晶圆级光学加工母模具
●支持从小面积高精度纳米结构模具复制到大幅面模具，用作CLIV全副面压印母模具
●支持各种模具材质与形状
●支持旋涂压印胶基底步进式压印复制，适用于高精度纳米结构模具拼接
●设备自带点胶装置，支持点胶步进式压印复制，适用于微透镜阵列等晶圆级光学结构模具拼接
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>200mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，支持各种商用纳米压印材料
●标配设备内部洁净环境与除静电装置
●高精度闭环控制位移平台，定位精度优于1μm
| 兼容基底尺寸 | <300mm方形 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 纳米压印技术 | 步进式纳米压印 |
| 压印精度 | 优于20纳米* |
| 结构深宽比 | 优于10比1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10 |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
自动工作模具复制 | 支持 |
自动点胶 | 选配 |
单次压印面积 | 50x50mm |
定位精度 | 优于1μm |
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