日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV

一liu的超低沖擊濕法微珠磨機，用于納米分散

總覽

　在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機。針對“超低損傷納米顆粒分散體”進行了優(yōu)化的濕微珠磨機，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進的寬分離器三角磨機。
　帶有新設(shè)計的平面攪拌器/珠分離轉(zhuǎn)子的濕珠磨機可實現(xiàn)低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力，同時保持珠粒的足夠的攪拌速度，在維持每單位珠粒量的加工速度的同時，對納米顆粒的損害小化。
　另外，為了滿足xin的納米分散需求，轉(zhuǎn)子設(shè)計使研磨機中珠粒的攪拌能量均勻，從而可以進行均勻的分散處理。

特征

1.可以分散gao級別超低損傷納米顆粒的珠磨機！

珠磨機，即使使用軟顆?；蚣{米顆粒的漿液，也可以進行超低沖擊處理，并且可以進行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒，例如100 nm級鈦酸鋇和有機顏料，而傳統(tǒng)的珠磨機無法對其進行適當處理。

2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加！

這是一種珠磨機，可以將由于顆粒破壞而產(chǎn)生的細小碎片抑制到小，即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動性和改善長期保存期間的產(chǎn)品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。

3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利！

由于在珠磨機中的攪拌功率高度均勻，因此在漿料中的分散度均勻，并且可以抑制顆粒碎屑，因此即使使用幾十nm的納米顆粒，也可以獲得清晰的粒徑分布。可以提高產(chǎn)品性能，并且可以在批量生產(chǎn)條件下復制產(chǎn)品設(shè)計時預期的產(chǎn)品性能。

運行條件

可用磁珠直徑

Φ15μm?Φ0.3毫米

珠粒分離器圓周速度

6m /秒至18m / s

應(yīng)用實例和終產(chǎn)品實例

高粘度支撐

光學材料（氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體），導電涂料，化妝品（氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體）等。

支持低損傷擴散

電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀，鎳等），熱射線阻擋材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），
液晶顏料等。

介紹Apex Mill系列的產(chǎn)品陣容

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