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日本FLOM UI-22-110D PCTFE泵在半导体行业的关键应用解析
阅读：730 发布时间：2025-4-18日本FLOM公司的UI-22-110D（PCTFE泵）凭借其高精度、耐腐蚀、低污染的特性，在半导体制造和电子化学品处理中具有重要应用价值。
1. 光刻胶（Photoresist）的精确涂布与分配
应用场景
旋涂（Spin Coating）辅助供液：在晶圆涂胶过程中，需高精度控制光刻胶的输送量（μL级别），避免涂布不均匀。
喷墨式光刻（Inkjet Lithography）：用于新兴的直写光刻技术，精准分配光刻胶液滴（如80μL/次）。
技术优势
低脉动输送：减少气泡和流量波动，避免涂胶缺陷（如条纹、厚度不均）。
PCTFE耐化学性：兼容正胶（如AZ系列）、负胶（如SU-8）及溶剂（PGMEA、丙酮等）。
超低流量控制（0.001mL/min）：适合高价值光刻胶的节约型使用。
2. 蚀刻液（Etchant）与清洗剂的精准供给
应用场景
湿法蚀刻（Wet Etching）：精确输送HF（氢氟酸）、H?PO?（磷酸）等腐蚀性液体，控制蚀刻速率。
晶圆清洗：分配SC1（氨水+双氧水）、SC2（盐酸+双氧水）等清洗液，避免过量使用导致表面损伤。
技术优势
耐强酸强氧化剂：PCTFE对HF、HCl、H?SO?等耐受性优于普通塑料泵。
压力限制?；ぃ悍乐构苈范氯蛐孤┑贾卵沽σ斐＃；ぞг埠蜕璞赴踩?。
无金属污染：不锈钢+蓝宝石柱塞设计，避免金属离子污染（如Fe、Ni迁移）。
3. CMP（化学机械抛光）浆料输送
应用场景
抛光液（Slurry）定量供给：在CMP工艺中，需稳定输送SiO?、Al?O?等纳米颗粒悬浮液。
技术优势
耐磨设计：蓝宝石柱塞和PCTFE泵头可减少浆料磨损，延长寿命。
低脉动：避免浆料沉降或流量不均影响抛光均匀性。
4. 高纯化学品（Ultra High Purity, UHP）输送
应用场景
半导体级溶剂：如IPA（异丙醇）、DMSO（二甲基亚砜）、NMP（N-甲基吡咯烷酮）的精准分配。
电镀液（Electroplating）：铜、镍等金属电镀液的定量添加。
技术优势
化学兼容性广：PCTFE几乎不吸附有机物，适合高纯溶剂。
无颗粒脱落：相比普通蠕动泵，减少污染风险。
5. 先进封装（Advanced Packaging）
应用场景
底部填充（Underfill）：在芯片封装中精确注入环氧树脂，避免空洞（Voids）。
导电胶（Conductive Adhesive）分配：用于微米级焊点或3D IC堆叠。
技术优势
高粘度流体适应（需选配高压版本）：可处理1000cPs以上胶体。
RS232C控制：支持与点胶机器人联动，实现自动化生产。
选型与使用注意事项
适用条件
? 推荐场景
微量化学液分配（0.001–10mL/min）
腐蚀性/高纯液体输送
低脉动要求的精密工艺
? 限制因素
不适用于超高压力（＞2MPa）场景，如高压HPLC。
含氟类溶剂（如全氟醚）可能渗透PCTFE，需测试兼容性。
维护建议
定期清洗：使用后需用兼容溶剂（如IPA）冲洗泵头，避免结晶或固化。
密封件更换：长期接触强酸（如HF）时，建议每6–12个月检查柱塞密封。
校准流量：半导体工艺对精度要求高，建议每3个月校准一次。
结论
FLOM UI-22-110D在半导体行业的应用核心价值在于：
? 超高精度（0.3%重现性）满足微电子制造严苛标准。
? 耐腐蚀+低污染特性适配半导体化学品（光刻胶、蚀刻液、UHP溶剂）。
? 低脉动+紧凑设计适合集成到自动化设备（如涂胶机、清洗台）。
若需更高压力或更大流量，可考虑FLOM其他系列（如金属泵头型号），但UI-22-110D在微量、高纯、腐蚀性流体领域仍是优选方案。