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japansensor溫度計在硅單晶上拉裝置溫度控制上的運用
閱讀：953 發(fā)布時間：2023-3-15japansensor溫度計在硅單晶上拉裝置溫度控制上的運用
在坩堝中熔化多晶硅時的溫度控制，以及晶種后旋轉時的溫度控制。
從提升設備的視口進行溫度測量。
客戶的要求
我們希望通過準確捕獲熔化溫度來捕獲晶體起始點。
在許多情況下，測量距離相對較長，但目標尺寸需要相當小。 換句話說，需要長距離和小光斑類型。
由于環(huán)境溫度很高，因此耐熱溫度高就更好了。
客戶的要求
我們希望通過準確捕獲熔化溫度來捕獲晶體起始點。
在許多情況下，測量距離相對較長，但目標尺寸需要相當小。 換句話說，需要長距離和小光斑類型。
由于環(huán)境溫度很高，因此耐熱溫度高就更好了。
相關產(chǎn)品運用
1ms光纖型半階型，可在惡劣環(huán)境和狹窄空間內(nèi)自由使用
光纖型輻射溫度計FTKX系列
測量溫度范圍：100°C ～ 2000°C
纖維類型（耐熱性和耐磁場性）
高溫
用于石英
0.1ms/1ms快速響應
用于金屬
1ms輻射溫度計，其規(guī)格可根據(jù)要測量的對象而改變
無纖型輻射溫度計FLHX系列
測量溫度范圍：90°C ～ 2000°C
高溫
用于石英
0.1ms/1ms快速響應
用于金屬
