摩方精密復(fù)合精度光固化3D打印技術(shù)突破
發(fā)布時(shí)間:2024-05-29
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摩方精密面向全球市場(chǎng)推出Dual Series(以下簡(jiǎn)稱D系列)設(shè)備:microArch® D0210和microArch® D1025,在速度、質(zhì)量和便捷性上進(jìn)行大幅提升,將有效解決增材制造中高精度和大幅面的固有矛盾,再次實(shí)現(xiàn)工業(yè)級(jí)3D打印技術(shù)新突破。
D系列設(shè)備依舊保持了摩方精密超高精密、超高公差控制能力,全新搭載復(fù)合精度光固化3D打印技術(shù),新增自動(dòng)化操作平臺(tái),使工業(yè)級(jí)3D打印更智能、更穩(wěn)定、更高效。在打印尺寸上,實(shí)現(xiàn)2μm到100mm*100mm*50mm的跨尺度加工突破。在快速原型制作上,為精密電子、生物醫(yī)療、通訊、半導(dǎo)體等高精密行業(yè)的創(chuàng)新應(yīng)用帶來(lái)高速靈活、降本增效的全新解決方案。
大而非凡的打印尺寸、纖微畢現(xiàn)的打印精度、智能便捷地打印操作,共同造就了摩方精密新技術(shù)和新設(shè)備的超高品質(zhì)。