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一、产品介绍
nanoArch P150 25μm高精密3D打印系统采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术和数字微流控芯片。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
nanoArch P150是科研级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
二、nanoArchR P150 25μm高精密3D打印系统系统性能
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏树脂 | 光学精度 25μm |
| XY打印精度 50~200μm | 打印层厚 10~50μm | 打印样品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
| 打印文件格式 STL（单材） | 系统外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) | 重量 300kg |
| 电气要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW | 其他要求 部分工艺可选配加速?？榧巴坎隳？?/p> | 设备功率 2000W |
三、微纳3D打印系统打印材料类型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA、数字微流控芯片等。
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
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