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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
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- 納米管掃描系統(tǒng)可用于高分辨率掃描離子電導顯微鏡（SICM）。
- 倒置光學顯微鏡（IOM）便于透明材料研究和熒光顯微鏡一體化。
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
Park NX12原子力顯微鏡可用于任何一個項目，NX系列的眾多掃描模式和模塊化設計使它可輕松地適應任何一個掃描探針顯微鏡的需求。
Park NX12原子力顯微鏡參數(shù)：
標準成像：
- 真正的非接觸模式AFM
- 接觸模式AFM
- 側(cè)向力顯微鏡（LFM)
- 相位成像
- 輕敲式AAFM
電性能：
- 導電AFM
- I-V譜線
- 掃描開爾文探針顯微鏡（SKPM/KPM)
- 高電壓SKPM
- 掃描電容顯微鏡（SCM)
- 掃描電阻顯微鏡（SSRM)
- 掃描隧道顯微鏡 （STM)
- 掃描隧道光譜 （STS)
- 時間分辨的光電流測繪 （Tr-PCM)
磁性能：
- 磁力顯微鏡 （MFM)
- 可調(diào)外加磁場MFM
化學性能：
- 掃描電化學池顯微鏡（SECCM)
- 掃描電化學顯微鏡 （SECM)
- 電化學顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
- 功能化探針的化學力顯微鏡
熱性能：
- 掃描熱感顯微鏡(SThM)
光學性能：
- 探針增強拉曼光譜 (TERS)
- 時間分辨的光電流測繪 （Tr-PCM)
介電/壓電性能：
- 靜電力顯微鏡 （EFM)
- 動態(tài)接觸式靜電力顯微鏡（DC-EFM)
- 壓電力顯微鏡 （PFM)
- 高電壓PFM
機械性能
- Pinpoint納米力學映射
- 力調(diào)制顯微鏡 （FMM)
- 納米壓痕
- 納米刻蝕
- 高電壓納米刻蝕
- 納米操縱
- 壓電力顯微鏡 （PFM)
力測量：
- 力－距離（F-D)光譜
- 力－體積成像
- 熱噪聲法標定彈性系數(shù)