產(chǎn)品簡介
動(dòng)態(tài)光散射(DLS)和透射電子顯微鏡顯示顯示納米顆粒的平均直徑受到很大的
影響 ,使用表面活性劑和納米分散方法的回收次數(shù)。
詳細(xì)介紹
納米高壓均質(zhì)機(jī)可應(yīng)用于二氧化硅,蠟,環(huán)氧,丙烯酸,纖維素,硅酮乳液,潤滑劑,TiO2油墨,顏料涂料,CNT,碳,BT ,,石墨烯,氧化鋁。乳液,奶油海藻萃取等
各種技術(shù)的剪切率
剪切率:
通過供給分散單元和狹窄間隙之間的差動(dòng)速度引起的。
速度:
在分散單元內(nèi)約有 400~ 500m/s
碰撞:
受到碰撞的力量
速度超過 400 m/s,剪切率達(dá) 107s-1,整批混合條件不變,可用和負(fù)擔(dān)得起的可擴(kuò)展性。
NLM100: 75µm Z 型和 100µm Z 型
NH500: 100µm Z 型和
200µm Z 型, NH4000: 400µm Z 型 (過濾) -> 100µm Y 型(multi slots-多槽)
納米高壓均質(zhì)機(jī)新技術(shù)的出現(xiàn)要求*的材料處理,特別是化學(xué),電子材料。
樣品的供給和排出可以通過柱塞來完成,從左到右依次移動(dòng)。柱塞的移動(dòng)導(dǎo)致相互作用使分散單元內(nèi)壓力升高。
當(dāng)高壓流體樣品通過相互作用的分散單元時(shí),其速度突然增加到跨音速流體(馬赫數(shù) 1)并引起剪切機(jī)和空穴作為分散的動(dòng)力源。
大工作壓力(設(shè)計(jì)) 1700bar(2000bar)控制系統(tǒng)液壓系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)大流量480L/H均質(zhì)腔型號(hào)Z /Y型,孔徑 100/200/400μm外形尺寸3090L*1000W*2160H電力需求380v,50HZ,37kw重量2000kg
※ 可以根據(jù)客戶不同種應(yīng)用定制合適的搭配
※ 利用樣品與樣品之間的湍流和對(duì)撞來實(shí)現(xiàn)樣品的處理,樣品污染的風(fēng)險(xiǎn)更小!
※ 大耐壓可達(dá) 30000psi,超過目前所有的樣品處理設(shè)備,可達(dá)到更大的剪切力,空穴和湍流的效果!
※ 金剛石內(nèi)置層,更加耐磨,適用于更多的顆粒堅(jiān)硬的樣品處理
蘇州納洛泰儀器有限公司專業(yè)銷售微射流高壓均質(zhì)機(jī),超高壓納米微射流,納米粉碎機(jī),納米高壓粉碎機(jī),微射流納米均質(zhì)機(jī),脂質(zhì)體擠出器,超高壓滅菌柜,primix高速分散機(jī),微反應(yīng)乳化機(jī),高壓分散器等工業(yè)用設(shè)備, 成套設(shè)備以及研究裝備的企業(yè).