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微波等离子去胶机VP-Q10等离子激发频率2.45GHz，石英玻璃腔体，中英文操作系统，触摸屏控制，频率2.45GHz有强的化学作用，适用于芯片微波去胶、半导体...
等离子体去胶机VP-RS8腔体采用不锈钢材质，容积8升，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度...
等离子去胶机VP-RS15腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，...
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