脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（Pulsed laser ablation，PLA）指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品（衬底）上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求，在丰富经验的基础上设计制造的，采用PBN加热器，可将基板加热到1000℃以上，并采用氧气气氛，从而生产出高质量的薄膜。

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（Pulsed laser ablation，PLA）指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品(衬底)上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求，在丰富经验的基础上设计制造的，采用PBN加热器，可将基板加热到1000℃以上，并采用氧气气氛，从而生产出高质量的薄膜。 

诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统设备配置  

薄膜沉积室
样品交换室
闸阀
闸阀（沉积室和样品交换室之间）
沉积室用真空计
样品交换室用真空计
沉积室排气系统
样品交换室排气系统
衬底加热系统
靶材台系统
激光镭射
台架

可选项
电子枪
衬底加热系统
手套箱
手套箱运送机构
基材温度测量用温度计
离子泵

诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统规格

沉积室中达到的真空度：1×10^-6Pa以下
表面处理：电抛光（内表面镜面抛光后）
排气系统：涡轮分子泵+旋转泵，辅助阀、排气管道部件
样品交换室达到的真空度：1×10^-4Pa或更低
表面处理：电抛光（内表面镜面抛光后）。
排气系统：涡轮分子泵+旋转泵，辅助阀、排气管道部件

诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统的使用：

先将真空室抽到一定真空度, 靶面与基片平行放置, 激光束经由石英透镜聚焦到旋转的目标靶材上， 靶材和试样托分别以一定速度自转，以保证沉积薄膜层的均匀性。