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| 产地类别 | 进口 |
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等离子体加工期间的电弧放电可造成靶和腔室损坏，因而导致基材受损并形成颗粒。随着特征尺寸的下降，微电子设备越来越容易出现电弧引发的损坏。电弧放电可出现在任何等离子辅助过程中，例如电离物理气相沉积 （iPVD）、等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 和蚀刻。
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