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化学发光成像系统的特别之处在哪里

阅读:893      发布时间:2024-9-24
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化学发光成像系统应用:可应用于:ECL、ECL plus、SuperSignal、CSPD、CDP Star等化学发光底物染色的Western Blot样品拍摄和分析。
制冷温度:-60℃,软件一键成像,拍摄方便简单。
可选配多位滤光轮,RGB光源及滤镜相配,适应多种荧光染料。
人机工程学设计,操作方便实用。
百万像素进口高灵敏度,冷CCD、进口光学定焦镜头,F0.8,确保微弱信号的捕获。
全自动电脑控制,集成模块化处理器,耐腐蚀性金属暗箱,防静电,抗干扰。
双侧亮度LED集成光源,低功耗,长寿命。
高性能扣噪音暗背景成像板:192*246面积。
软件功能:
1.具有预览功能,可以提前进行预曝光,如果样品强度很高,可以直接拍摄出图片;
2.自动曝光拍摄,无需再调整曝光时间等其他参数,只需点击拍摄就可得到图片,方便、快捷;
3.软件带图像自动优化功能,自动调整直方图;
4.在拍摄界面也可以手动调整图片灰度,并且带保存功能;
5.预定义参数设置可以提前设定实验执行者的储存路径,可设定黑白反转、水平反转、垂直反转;
6.可设定CCD的温度;
7.带图像管理功能,可实现黑白反转、mark叠加功能,可以进行色阶手动调整,并可以保存修改后的图片。

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