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杭州泛索能超聲科技有限公...

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超聲波噴涂設(shè)備—應(yīng)用于聚酰亞胺和光刻膠涂層

閱讀:756      發(fā)布時間:2023-7-18
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超聲波噴涂系統(tǒng)已被證明適用于需要均勻、可重復(fù)的光刻膠或聚酰亞胺薄膜涂層的各種應(yīng)用。通過控制從亞微米到 100 微米以上的厚度并能夠涂覆任何形狀或尺寸,涂層系統(tǒng)是旋轉(zhuǎn)和傳統(tǒng)噴涂等其他涂層技術(shù)的可行替代方案。

聚酰亞胺和光刻膠涂層的常見應(yīng)用包括但不限于MEMS、鏡頭、微流體設(shè)備、微電子和過濾器。涂層系統(tǒng)能夠在平面和 3D 基板上進行涂層,通常包括硅晶片、玻璃、陶瓷和金屬。

超聲波噴涂是一種簡單、經(jīng)濟且可重復(fù)的光刻膠和聚酰亞胺涂層工藝。超聲波鍍膜系統(tǒng)可以使用簡單的分層技術(shù)精確控制流速、鍍膜速度和沉積量。低速噴霧成型將霧化噴霧定義為精確、可控的圖案,避免過度噴涂,同時產(chǎn)生非常薄、均勻的層。

超聲波聚酰亞胺和光刻膠涂層的優(yōu)勢:

  • 各種表面輪廓的均勻薄膜覆蓋。

  • 化學(xué)和涂層性能的高度靈活性。

  • 無堵塞霧化噴霧。

  • 傳輸效率高,浪費極少。

  • 高度可重復(fù)的成熟噴涂工藝。

超聲波噴涂系統(tǒng)使用高頻聲音振動產(chǎn)生由數(shù)學(xué)定義的液滴組成的柔和霧氣。消除了堵塞,因為沒有使用壓力來產(chǎn)生噴霧,并且液滴具有非常窄的液滴分布尺寸,進一步有助于沉積層的均勻性。

超聲波光刻膠噴涂機

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