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　　介紹：
 

　　在傳統(tǒng)的高速旋涂無法提供均勻覆蓋深孔形貌或高縱橫比的應(yīng)用中，超聲波光刻膠噴涂系統(tǒng)用均勻的光刻膠薄膜涂覆半導(dǎo)體成為了完整的解決方案。與傳統(tǒng)的旋涂相比，采用超聲波噴涂的光致抗蝕劑涂層在沉積更均勻的涂層方面具有優(yōu)勢，特別是在高深寬比溝槽和v形槽結(jié)構(gòu)中沿側(cè)壁頂部沉積時，離心旋涂無法沉積均勻的涂層沿著側(cè)壁形成膜，而沒有過多的光致抗蝕劑沉積在腔體的底部。事實(shí)證明，使用超聲技術(shù)進(jìn)行直接噴涂是將光刻膠沉積到3D微結(jié)構(gòu)上的可靠且有效的方法，從而減少了因金屬過度暴露于抗蝕劑涂層而導(dǎo)致的設(shè)備故障。