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超聲波光刻膠霧化噴涂產(chǎn)品介紹

閱讀:892      發(fā)布時(shí)間:2021-4-7
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  介紹:
 
  在傳統(tǒng)的高速旋涂無(wú)法提供均勻覆蓋深孔形貌或高縱橫比的應(yīng)用中,超聲波光刻膠噴涂系統(tǒng)用均勻的光刻膠薄膜涂覆半導(dǎo)體成為了完整的解決方案。與傳統(tǒng)的旋涂相比,采用超聲波噴涂的光致抗蝕劑涂層在沉積更均勻的涂層方面具有優(yōu)勢(shì),特別是在高深寬比溝槽和v形槽結(jié)構(gòu)中沿側(cè)壁頂部沉積時(shí),離心旋涂無(wú)法沉積均勻的涂層沿著側(cè)壁形成膜,而沒(méi)有過(guò)多的光致抗蝕劑沉積在腔體的底部。事實(shí)證明,使用超聲技術(shù)進(jìn)行直接噴涂是將光刻膠沉積到3D微結(jié)構(gòu)上的可靠且有效的方法,從而減少了因金屬過(guò)度暴露于抗蝕劑涂層而導(dǎo)致的設(shè)備故障。

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