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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 環(huán)保,石油,地礦,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
TN-G1100ZC高真空CVD管式爐
該儀器是一個三溫區(qū)真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等試驗和小批量生產(chǎn)之用。主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等。
儀器的控制系統(tǒng)，采用雙層風冷結構；爐膛采用高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型；加熱元件為進口電阻絲，配有真空裝置，可在多種氣氛下工作，大大提高了其使用范圍。該爐具有使用溫度高，操作簡單，維修方便等特點，可廣泛用于冶金，機械，輕工，商檢，高等院校及科研部門。玻璃封裝、陶瓷電子元件、磁性材料、粉末冶金等產(chǎn)品的排膠，預燒和燒成，智能高溫箱式爐，也可用于稀土發(fā)光材料及其他材料的熱處理工藝。
具有操作容易，安全可靠，控溫精度高（專家PID控制），保溫效果好，溫度范圍大，爐膛溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣泵，抽真空等特點。
TN-G1100ZC高真空CVD管式爐爐體采用數(shù)控機床加工，經(jīng)拋光、打磨、酸洗、磷化、噴涂塑粉、高溫烘烤等制作而成具備了抗氧化、耐酸堿、耐腐蝕、耐高溫、容易清理。
1 | 產(chǎn)品名稱 | TN-G1100ZC型高真空CVD管式爐 |
2 | 產(chǎn)品型號 | TN-G1100ZC-503 爐膛尺寸：直徑50x300mm |
TN-G1100ZC-603 爐膛尺寸：直徑60x300mm | ||
TN-G1100ZC-803 爐膛尺寸：直徑80x300mm | ||
3 | 爐門結構 | 開啟式 |
4 | 上限溫度 | 1200℃ |
5 | 工作溫度 | ≤1100℃ |
6 | 加熱溫區(qū) | 三溫區(qū) |
7 | 溫區(qū)長度 | 220mm |
8 | 恒溫區(qū)長 | 100mm |
9 | 爐管材質(zhì) | 301S不銹鋼管（可選剛玉管） |
10 | 密封方式 | 不銹鋼真空法蘭 |
11 | 氣密性 | 真空法蘭和石英爐管的氣密性可達4.03x10-3Pa |
12 | 控溫方式 | 智能化30段可編程控制，自動控溫 |
13 | 控溫精度 | ±1℃ |
14 | 加熱速率 | ≤20℃ |
15 | 加熱元件 | 硅碳棒 |
16 | 熱電偶 | K型熱電偶 |
17 | 爐膛材料 | 進口氧化鋁陶瓷纖維 |
18 | 功率 | 2.5Kw |
19 | 電壓 | 220V 50Hz-60Hz |
20 | 系統(tǒng)真空 | 5～10Pa（需要達到其它真空度時，需選配不同的抽真空裝置） |
21 | 售后服務 | 12個月質(zhì)保，終身保修 |
