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低電阻率測(cè)試儀(RESmap-1)
  • 低電阻率測(cè)試儀(RESmap-1)

貨物所在地:上海上海市

地: 德國(guó)

更新時(shí)間:2025-05-20 15:51:58

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電阻率測(cè)試儀(RESmap )在對(duì)低電阻率晶錠和晶圓進(jìn)行非接觸式測(cè)量方式上擁有非常重要的重復(fù)性 Si | Ge | 化合物半導(dǎo)體 | 寬帶隙 | 材料 | 金屬 | 導(dǎo)電 | 氧化物和氮化物[ Ge | Si | SiC | InP | GaAs | GaN | InAs以及更多]

電阻率測(cè)試儀(RESmap )在對(duì)低電阻率晶錠和晶圓進(jìn)行非接觸式測(cè)量方式上擁有非常重要的重復(fù)性Si | Ge | 化合物半導(dǎo)體 | 寬帶隙 | 材料 | 金屬 | 導(dǎo)電 | 氧化物和氮化物[ Ge | Si | SiC | InP | GaAs | GaN | InAs以及更多]    

       

 

電阻率測(cè)試儀(RESmap )特征

 

電阻率的非接觸式測(cè)量和成像 高頻渦流傳感原理與集成紅外溫度傳感器可校正樣品的溫度變化
信號(hào)靈敏度 基于線圈頻率讀數(shù)的高信號(hào)靈敏度,可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確可靠的電阻率測(cè)量,并具有高再現(xiàn)性和可重復(fù)性
測(cè)量時(shí)間 測(cè)量時(shí)間 < 3 s,測(cè)量之間時(shí)間 < 1 s
測(cè)量速度 200 mm 晶圓/晶錠 < 30 s,9個(gè)點(diǎn)
多點(diǎn)測(cè)量及測(cè)繪顯示 不超過(guò)9999個(gè)點(diǎn)
材料外形尺寸 平坦或略微彎曲的晶圓、晶錠、錠板、毛坯和薄膜
X-Y位置分辨率 ≥ 0.1mm
邊緣扣除 5 mm
可靠性 模塊化、緊湊的臺(tái)式儀器設(shè)計(jì),可靠性高,正常運(yùn)行時(shí)間 > 99%
電阻率測(cè)量的重復(fù)性 ≤ 0.15%,基于使用ANOVA   Gage R&R方法對(duì)材料系統(tǒng)分析(MSA)

 

 

 











更多技術(shù)規(guī)格和配置選項(xiàng):  


為自動(dòng)化流程做準(zhǔn)備

可用于不同的平臺(tái)

測(cè)量方法符合

SEMI MF673標(biāo)準(zhǔn)

數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)有效性檢查

使用NIST標(biāo)準(zhǔn)

校準(zhǔn)精度

±1%

集成紅外溫度傳感器 ±0.1°

允許報(bào)告標(biāo)準(zhǔn)溫度下的電阻率,(與樣品的實(shí)際溫度不同)

樣品厚度校準(zhǔn)

對(duì)于高頻信號(hào)穿透深度大于穿透深度的樣品

電力要求

100-250 VAC, 5 A

尺寸

465 ´ 550 ´ 600 mm

軟件控制

配備Window10或新版本的標(biāo)準(zhǔn)PC,2個(gè)以太網(wǎng)端口

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

用戶(hù)友好且*的操作軟件:        

◇  電阻率測(cè)量配方        

◇  導(dǎo)出/導(dǎo)入功能和原始數(shù)據(jù)訪問(wèn);        

◇  多級(jí)用戶(hù)賬戶(hù)管理

◇  所有執(zhí)行的測(cè)量概覽;

◇  繪圖選項(xiàng)(線、十字、星、完整地圖、地形、用戶(hù)定義圖案);

◇  分析功能包;統(tǒng)計(jì)、方差分析、溫度校正函數(shù)和數(shù)據(jù)庫(kù);

◇  遠(yuǎn)程訪問(wèn);基于互聯(lián)網(wǎng)的系統(tǒng)允許在世界任何地方進(jìn)行遠(yuǎn)程操作和技術(shù)支持;

 

    電渦流傳感器的測(cè)量原理


中心處可實(shí)現(xiàn)較大的準(zhǔn)確性和精確度




4H-SiC晶圓整個(gè)生長(zhǎng)面區(qū)域的電阻率變化測(cè)量

 

硅晶圓電阻率變化測(cè)量 — 面掃描、分布和線掃描  

 

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