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當前位置：上海巖征實驗儀器有限公司> 供求商機> 光催化反應釜
上海巖征生產(chǎn)的光化學高壓反應釜，使用溫度300℃內(nèi)，使用壓力：10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳（CO2）還原、二氧化碳（CO2）還原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）還原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域
設計參數(shù)：
加熱功率 ：1000W
設計溫度： 300℃
使用溫度： 50~250℃(50ML 使用 200℃)
控溫精度： ±1℃ (無強放熱吸熱情況下)
設計壓力： 150bar
爆破壓力 ：125bar
使用壓力 ≤100bar (注 1)
標準材質(zhì)： 316L (注 2)
攪拌速度： 150~1000r/min
特點：
支持多工位對比實驗；
具備探底管取樣功能；
支持催化劑過濾；
LCD 真彩色全觸摸操作界面；
鑄銅加熱器，均熱性高，傳熱快；
支持保溫計時和啟動計時，雙計時模式；
具備安全聯(lián)鎖功能，超溫超壓報警；
支持懸浮攪拌，避免攪拌子底部磨損和催化劑磨損；
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