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多功能离子减薄仪---电镜制样设备是一款*的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得*佳离子研磨结果。
这一款桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨
功能外，徕卡EM RES102还可用于低能量ji温和的离子束研磨过程。
产品简介
详细介绍
性能与优点
适用于TEM，SEM以及LM的样品制备
*的解决方案
Leica EM RES102 是一款*的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得*佳离子研磨结果。
这一款桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨
功能外，徕卡EM RES102还可用于低能量ji温和的离子束研磨过程。
TEM 样品
› 单面或双面离子束研磨适用于材料的离子束减薄过程。鞍形场离子源可获得很大的电子束透明薄区。
› 程序化控制的离子入射角度变化，适用于完成特殊的样品制备目的，例如FIB样品清洁，以减少无定形非晶层。
SEM 或 LM 样品
› 离子束抛光*大抛光区域可达25mm。
› 离子束清洁适用于对样品表面污染层或机械抛光后表面产生的涂抹层进行清洁。
› 样品表面衬度增强作用，可替代化学刻蚀作用。
› 35°斜坡切割用于制备多层样品的截面。
› 90°斜坡切割用于制备复合结构的半导体样品或组装器件，这种方式所需的机械预加工工作*少 。
TEM, SEM 或 LM样品制备
- 在于您的选择
为了支持多样化的应用需求，Leica EM RES102 可以装配各种样品台以适用于TEM，SEM及LM样品制备。预抽室
系统实现样品快速交换，从而可*效提高样品交换效率 。
SEM
该样品台适用于SEM和LM样品的离子束清洁，抛光和衬度增强，可在环境温度下或 LN2制冷情况下使用。SEM样品台
可以制备*大尺寸达 25mm 的样品。适配器用于夹持商品化生产的带有3.1mm直径插针的SEM样品座。
SEM
斜坡切割样品台适用于切割样品获得纵截面(90°)或斜截面(35°)，便于SEM观察样品内部纵向结构，可以在环境温度下或LN2 制冷情况下使用。SEM clamp holder to hold small sampleswith maximal dimensions of 5(H) x 7(W) x2(T)mm.This holder can be easily transferredto the SEM without removing the sample.TEM Sample Holder (Quick ClampHolder)for single and double-sided low angle millingdown to 4°.
SEM
薄片样品台用于夹持*大尺寸为5(H)×7(W)×2(D) mm样品。该样品台可以很方便地被直接转移进SEM中，而不需要取出样
品。
TEM
TEM样品夹用于单面或双面离子束减薄，减薄角度可低至4°。
TEM
TEM冷冻样品夹具与LN2制冷装置联用，用于制备温度min感型样品。
FIB
FIB清洁样品台用于清洁FIB样品，减少表面无定形非晶层。
Leica EM RES102 可对样品进行离子束减薄，清洁，截面切割，抛光以及衬度增强，这*大满足了您对应用需求的多样化和便利性。
操作简便
› 19”触摸屏电脑控制单元，监控并记录制样过程
› 内置应用参数库
› 程序化制样参数设定，加速初学者学习曲线
› 帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护
*效/节约成本
› TEM，SEM和LM应用功能集于一体
› TEM样品制备获得的薄区大，*效提高了TEM样品制备效率
› SEM样品制备*大可达25mm样品直径
› 预抽室系统帮助快速交换样品，减少等待时间，并保证了样品室的持续高真空
› 局域网功能方便远程操控
› LN2样品台使得温度min感型样品可在优化条件下进行离子研磨
an全
› 精que的自动终止功能，适用于光学终止或透明样品的法拉第杯终止
› 在制样过程中可以时时存储活图像或视频
› 离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果