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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
高溫真空揮發(fā)爐主要用于從 4N 到高純硒的提純制備，可將 4N 硒中的大多數(shù)元素通過(guò)真 空揮發(fā)除雜，使硒達(dá)到 5~6N 標(biāo)準(zhǔn)。
詳細(xì)介紹
一、設(shè)備用途
本設(shè)備主要用于從 4N 到高純硒的提純制備，可將 4N 硒中的大多數(shù)元素通過(guò)真 空揮發(fā)除雜，使硒達(dá)到 5~6N 標(biāo)準(zhǔn)。
二、高溫真空揮發(fā)爐主要技術(shù)參數(shù)
1、額定電壓功率：三相，380V,50Hz,≤30Kw
2、坩堝容量：20kg (以硒比重計(jì)算)
3、坩堝溫度：≥800℃
4、真空度：≤1x10-1Pa
5、坩堝材質(zhì)：石英材質(zhì)
6、極限真空度：<10Pa
7、主要組成部分：真空腔體、爐架、真空系統(tǒng)、熔煉裝置、收集塔、爐蓋升降裝置、 底部升降裝置
三、高溫真空揮發(fā)爐設(shè)備優(yōu)勢(shì)
1、爐門(mén)采用側(cè)部開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，方便進(jìn)出料和安裝拆卸熔煉坩堝
2、爐架由型鋼和數(shù)控折板組裝成爐架，用于支撐爐體，并做為操作平臺(tái)，使操作更具人性化
3、真空爐內(nèi)溫度均勻且穩(wěn)定，具有良好的熱傳遞性能，確保材料在加熱過(guò)程中受熱均勻，減少熱處理過(guò)程中的溫度差異
4、在真空爐內(nèi)可以排除氧氣、水蒸氣等有害氣體，從而減少材料表面的氧化反應(yīng)，保持材料的純凈度和性能
5、真空爐內(nèi)部溫度均勻且穩(wěn)定，這得益于其先進(jìn)的加熱系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)。通過(guò)電阻加熱或電磁感應(yīng)加熱方式，真空爐能夠確保材料在加熱過(guò)程中受熱均勻，從而提高 熱處理效果。
6、本設(shè)備具有良好的熱傳遞性能，使得熱量能夠迅速且均勻地傳遞到材料內(nèi)部，提高加熱效率。