目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSH325- I-RF-SS单靶磁控溅射镀膜仪（射频）
CY-MSH325- I-RF-SS单靶磁控溅射镀膜仪(射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。
设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。
技术参数：
| 项目 | 明细 | |
| 产品型号 | CY-MSH325- I-RF-SS | |
| 供电电压 | AC220V，50Hz | |
| 整机功率 | 4KW | |
| 系统真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 样品台 | 外形尺寸 | φ150mm |
| 加热温度 | ≦500℃ | |
| 控温精度 | ±1℃ | |
| 可调转速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶枪 | 靶材尺寸 | 直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
| 冷却模式 | 循环水冷 | |
| 水流大小 | 不小于10L/Min | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | 直径φ325mm，高度500mm |
| 腔体材质 | SUU304不锈钢 | |
| 观察窗口 | 直径φ100mm | |
| 开启方式 | 顶开式 | |
| 气体控制 | 1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM | |
| 真空系统 | 配分子泵系统1套，气体抽速600L/S | |
| 膜厚测量 | 可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 ? | |
| 溅射电源 | 射频电源500W | |
| 控制系统 | CYKY自研专业级控制系统 | |
| 设备尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm | |
| 设备重量 | 350kg | |
1
化工仪器网