目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-TRP真空磁控溅射镀膜系统
真空磁控溅射镀膜系统设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备?？晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
真空磁控溅射镀膜系统技术参数：
| 真空室 | 圆筒型前开门结构，尺寸?450×40mm | |
| 真空系统配置 | 复合分子泵、机械泵、气动闸板阀、进口SMC气缸节流阀 | |
| 极限压力 | ≤6.6 *10-6 Pa。（经烘烤除气后） | |
| 恢复真空时间 | 25 分钟可达到≤6.6×10-6 Pa。（短时间撰兹大气并充入干燥氮气后开始抽气） | |
| 磁控靶组件 | 永磁靶三套；靶材尺寸?60mm（其中一个可溅射磁性材料）；各靶射频滩射和直流裁射兼容；靶内水冷；三个靶可共同折向上面的样品中心；靶与样品距离 90~130mm可调；每个靶配进口 SMC 旋转气动挡板 | |
| 单基片加热台 | 样品尺寸 | ?4英寸 |
| 运动方式 | 基片可连续回转，转速 0－30 转/分 | |
| 加热 | 进口加热丝加热，zui高加热温度 600℃ ±1℃ | |
| 挡板形式 | 进口 SMC 转角气缸控制 | |
| 气路系统 | 质 量 流 量 控制器 2 路 | |
| 计算机控制系统 | 采用 PLC ＋工控机＋触摸屏全自动控制方式 | |
| 可选配件 | 膜厚仪、气泵、水冷循环机 | |
| 设备占地面积 | 主机 | I000×1800mm2 |
| 电控柜 | 900×600mm2 | |
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