目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-HVM高真空磁控溅射镀膜仪
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备?？晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
| 真空室 | 梨型真空室，尺寸? 560×350mm | |
| 真空系统配置 | 复合分子泵、机械泵、闸板阀 | |
| 极限压力 | 2.0 * 10-5 Pa （经烘烤除气后） | |
| 恢复真空时间： | 40 分钟可达到6 .6*10-4 Pa 。（系统短时间暴露大气并充入干燥氮气后开始抽气）
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| 磁控靶组件 | 永磁靶5套；靶材尺寸?60mm（其中一个可溅射磁性材料）；各靶射频滩射和直流裁射兼容；靶内水冷；靶与样品距离 90~130mm可调；
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| 基片水冷加热公转台 | 基片结构 | 设计6个工位，其中１个工位安装加热炉，其余工位为水冷基片台 |
| 样品尺寸 | ?30mm，可放置6片 | |
| 运动方式 | 0?360℃往复回转 | |
| 加热 | 基片加热*高温度600℃±1℃ | |
| 基片负偏压 | －200Ｖ | |
| 气路系统 | 质 量 流 量 控制器 2 路 | |
| 计算机控制系统 | 控制样品转动，挡板开关，靶位确认等 | |
| 设备占地面积 | 主机 | 1300×800mm2 |
| 电控柜 | 700×700m2 | |
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