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目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSH500X-II-DCRF-SS双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)

双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)
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参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
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  • 品牌
  • 型号 CY-MSH500X-II-DCRF-SS
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 郑州市
属性

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更新时间:2025-07-31 08:42:44浏览次数:14评价

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双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位,直流射频双电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜。
CY-MSP500S-DCRF-B双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪,设备配有一台直流电源,一台射频电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。本型号采用靶下置布局,样品台在上方,与靶面高度可通过程序**可调,并且可旋转加热,性能优异。

技术参数:

项目

明细

产品型号

CY-MSH500X-II-DCRF-SS

供电电压

AC220V50Hz

整机功率

6KW

极限真空度

5x10-4Pa

载样台参数

尺寸

150mm

高度

上下70mm**可调

加热温度

500

转速

1-20rpm

磁控溅射头参数

数量

22"磁控溅射头

冷却方式

水冷,所需流速10L/min

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

真空腔体

腔体尺寸

φ500mm X 490mm H

腔体材料

不锈钢

观察窗口

φ100mm

开启方式

前开门式

气体流量控制器

1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM  Ar;

真空泵

配有一套分子泵系统,抽速600L/S

膜厚仪

石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 ?

溅射电源

直流电源1台,500W,适用于制备金属膜

射频电源1台,500W,适用于非金属镀膜

操作方式

CYKY自研专业级控制系统

整机尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整机重量

350kg



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