目录:郑州成越科学仪器有限公司>>电子束，激光镀膜仪>> CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪
该电子束蒸发方式镀膜仪，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。
电子束蒸发镀膜仪设备技术参数
| 使用条件 | 环境温度 | 5℃～40℃ |
| 电源 | 380V | |
| 功率 | ≤20KW | |
| 水压 | ≤2.5bar | |
| 真空室尺寸 | 蒸发室尺寸 | φ500×H500(㎜) |
| 过渡仓库 | φ280×H300(㎜) | |
| 电子枪 | 新型电子枪1套，6穴坩埚 | |
| 离子源 | 考夫曼离子源K08一套 | |
| 样品转盘 | 样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃ | |
| 系统真空度 | 极限真空 | 经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa |
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| 抽气速率 | 从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa |
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| 系统漏率 | 整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa |
| 抽真空系统 | TY1200分子泵+机械泵(VRD-30)系统，并设置旁路抽气 | |
| 镀膜监测 | 采用TM160膜厚仪进行监测 | |
| 镀膜厚度的不均匀度 | ≤3% | |
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