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简单介绍：

小型台式单靶磁控溅射镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。

详情介绍：

本套配置采用石英真空腔体，镀膜过程全向可视，便于实验的观察记录，腔体设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用?？榛杓?，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。

• 可用于在半导体芯片的表面沉积金属薄膜，如铝（Al）、铜（Cu）等作为电极材料。这些金属薄膜电极对于芯片内的电流传导起着关键作用，能够保证芯片的电学性能，例如在制造晶体管时，为源极、漏极和栅极等结构提供高质量的导电层。

• 也可以用于沉积绝缘薄膜，如二氧化硅（SiO?）、氮化硅（Si?N?）等。这些绝缘薄膜可作为半导体器件中的介质层，用于隔离不同的导电区域，防止电流泄漏，从而提高半导体器件的性能和可靠性。

技术参数：