桌面型射频磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
本设备为射频磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源，尤其适合非金属...
真空腔体 参考价：面议
该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种镀膜
双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验...
桌面型双靶磁控镀膜仪 参考价：面议
CY-MSP210S-RFD桌面型双靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，在保留高真空不锈钢腔体的同时，精简了其他机构，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场...
大功率直流磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
大功率直流磁控溅射镀膜仪是一款高功率台式磁控等离子溅射镀膜机 ，带有一个水冷2英寸靶头，冷水机和可旋转样品架。大功率直流磁控溅射镀膜仪设计用于涂覆直径达4英寸的...
单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源）。单靶磁控溅射镀膜仪在镀膜时，可根据需要分...
三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
产品简介：CY-600-3HD三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄...
双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介...
多功能粉体包覆磁控镀膜仪 参考价：面议
该设备主要?于粉体材料、颗粒材料的包覆制备（磁控溅射镀膜、CVD、PECVD镀膜）及热处理等，?于改善粉体或颗粒的表?性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电性、耐...
桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
本设备为桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
本设备为双靶磁溅射控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
双靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款...
UPS三靶磁控溅射镀膜机 参考价：面议
三靶磁控溅射镀膜机是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化，?？榛涂啥ㄖ频摹８米爸每捎糜谥票傅ゲ慊蚨嗖闾绫∧?，导电膜，合金膜，半导体膜，陶...
磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备 参考价：面议
磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利...
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪 参考价：面议
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统，具有双靶2"目标源，例如，一个直流源用于涂覆金属薄膜，另一个射频源用于涂覆非金属材料。双靶高真空磁控等离子溅射...
四探针薄膜厚度测试仪 参考价：面议
四探针测试仪用于半导体、薄膜、导电涂层等材料的电学性能测试。四探针薄膜厚度测试仪核心作用是消除接触电阻和引线电阻的影响，从而获得更准确的测量结果
离子源双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
离子源双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，设备配有两台直流电源，两台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导...
三靶磁控溅射镀膜仪双电源 参考价：面议
三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、?？榛?、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自...
?双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台） 参考价：面议
?双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台）配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学...
台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源，尤其适合非金属或其...
台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅...
磁控溅射镀膜仪带振动样品台 参考价：面议
带振动样品台的三靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有三个靶位的实验室专用于处理粉末及颗粒样品的镀膜仪，设备配有两台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电...
往复样品台单靶磁控镀膜仪 参考价：面议
桌面型单靶磁控镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择...
倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪 参考价：面议
本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪，样品台与靶面的角度可调，可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，可用...
1