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上海進佳科學(xué)儀器有限公司
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晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F
  • 晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F

貨物所在地:上海上海市

地: 日本

更新時間:2025-02-25 00:19:06

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晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F GR312F,熱門型號是GR-511F,又稱壓力自動調(diào)節(jié)閥,
用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)中晶圓背面壓力的控制器,實現(xiàn)冷卻系統(tǒng)的冷卻功能。

晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F

控制壓力10torr、20torr、50torr


晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F又稱壓力自動調(diào)節(jié)閥,

用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)中晶圓背面的微小壓力控制,實現(xiàn)冷卻系統(tǒng)的冷卻功能,減少晶圓的熱損傷。

 

 晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F是壓力控制器GR500F系列中的熱門型號,是壓力自動調(diào)節(jié)閥GR-312F的升級產(chǎn)品,穩(wěn)定性更好,滿足晶圓生產(chǎn)中更嚴(yán)格的工藝要求。


晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F最小壓力控制器可以到1.3kpa.


特征

  • GR-511F是GR-312F的升級產(chǎn)品,Wafer背壓控制;

  • 壓力控制更穩(wěn)定、精度0.5%;

  • 可選擇流量信號反饋;

  • RoHS 認(rèn)證



技術(shù)參數(shù)

 

型號

GR-511F

閥門類型

C: 常閉

泄漏率

≤ 7 ×   10-11 Pa·m3 /s (He)

工作壓力上限

300   kPa (A)

耐壓

350   kPa (A)

工作溫度

5-50   °C (Accuracy guaranteed temp : 15-40 °C)

電源

+15   VDC±5 %, 250 mA -15 VDC±5 %, 250 mA

功率

7.5 VA

輸出信號

Analog

氣體 *1

He,   Ar, N2

接口

1/4   inch VCR

壓力量程

1.333   kPa (A) (10 Torr),

2.666   kPa (A) (20 Torr),
  6.666 kPa (A) (50 Torr)

壓力控制范圍

1-100   %F.S.

精度 *2

±0.5   %R.S.

零點/溫度系數(shù)

±0.04   %F.S./°C

量程/溫度系數(shù)

±0.04   %R.S./°C

相應(yīng)時間*3

≤ 1   sec

輸入模擬信號

0.1-10   VDC (1-100 %F.S.) Input impedance ≥ 1 MΩ
  Option:0.05-5 VDC (1-100 %F.S.) Input impedance≥ 1 MΩ

輸出模擬信號

0-10   VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ
  Option:0-5 VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ

流量滿量程 *1

20,   50, 100 SCCM

流量精度 *4 *5

±1   %R.S. (Flow rate > 25 %F.S.)
  ±0.25 %F.S. (Flow rate ≤ 25 %F.S.)

流量輸出信號

0-5   VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ

材質(zhì)

SUS316L

安裝方向 *6

Free

重量*7

1.5 kg












實物圖片

GR-511F、IGS接口14C3


晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F




應(yīng)用案例

晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F



熱門型號:GR312F、GR314F、GR317F、GR511F、GR-224FD

UR-Z712M、UR-Z712M-B、UR-Z722M、UR-Z722M-B、UR-Z732M、UR-Z732M-B、UR-Z714M-B、UR-Z724M-B、UR-Z734M-B。


周邊產(chǎn)品

  horiba質(zhì)量流量控制器,熱門型號

SEC-Z717SMGC、SEC-Z727SMGC、SEC-Z717MGC、SEC-Z717MGC、


HORIBA 是氣體和液體質(zhì)量流量控制器制造商之一,擁有一系列模擬、數(shù)字和高溫質(zhì)量流量控制器以及使用點液體源汽化控制和輸送系統(tǒng)。

HORIBA 可以為您的涂層工藝生產(chǎn)線提供穩(wěn)定的控制,如化學(xué)氣相沉積 (CVD),原子層沉積 (ALD),金屬有機化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) PVD (物理氣相沉積),等離子體增強化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 和金剛石沉積或金剛石涂層 (DLC)。我們的產(chǎn)品提供全面的流體控制和過程監(jiān)控,以提高產(chǎn)量,增加吞吐量,并為您的涂層過程提高效。


本公司同時提供日本HORIBASTEC的質(zhì)量流量計、質(zhì)量流量控制器、數(shù)字式質(zhì)量流量控制器、耐腐蝕質(zhì)量流量控制器、數(shù)字壓力自動調(diào)節(jié)閥、壓力控制器、薄膜硅真空計、汽化器、殘余氣體分析儀。








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