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科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)-Nano-36

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36擁有LOAD LOCK預真空進樣室（可選）、前開門蒸發(fā)腔體、冷凝泵和干泵、多個熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源。

在高真空下，電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子，被加速陽極加速，獲得很大的動能轟擊到的蒸發(fā)材料上，把動能轉化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化，而實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源由發(fā)射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā)。通過調節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率，特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)不同厚度的各種金屬與氧化物薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等領域。

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)-Nano-36

在高真空下，電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子，被加速陽極加速，獲得很大的動能轟擊到的蒸發(fā)材料上，把動能轉化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化，而實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源由發(fā)射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā)。通過調節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率，特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料。可在高真空下蒸發(fā)不同厚度的各種金屬與氧化物薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料以及電子等領域。