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详细介绍
Evap-4 Power Supply电子束蒸发电压控制器用于电子束蒸发器，具有高效、紧凑的4通道，具备共蒸发能力。迷你电子束蒸发器能够在沉积常见工艺金属（如金、银和铬）时提供佳的控制力，并且与热舟源相比，对基底和周围环境的热负荷极小。
这种技术利用电子束直接蒸发棒状材料，或者通过加热偏置坩埚间接蒸发材料。当从坩埚蒸发时，部分准直的电子束在材料利用率方面比传统电子束蒸发器或热舟源更具优势，尤其是在处理昂贵材料时。
主动冷却的铜头设计使得在运行过程中几乎不产生放气，而封闭的蒸发槽可以吸收大部分辐射热，从而进一步降低对基底的热负荷。Evap-4非常适合在温度敏感的基底上沉积精确的薄膜涂层。Evap-4配备了通量板，用于测量源材料发出的离子通量，并提供沉积速率的独立测量。
Evap-4 Power Supply电子束蒸发电压控制器可在一个单元内控制多达4个蒸发槽，并提供两种控制模式：
- 灯丝电流控制：用户直接调节灯丝电流。
- 功率控制：用户设置功率设定点，电源会自动调节灯丝电流以达到所需的功率。
规格参数
- 安装法兰：NWCF63
- 真空内长度：标准300毫米（可定制长度）
- 真空内直径：57毫米
- 坩埚体积：1000毫米3（1立方厘米）
- 坩埚材料：钼（Mo）、钨（W）、石墨（Gr）
- 坩埚衬里：氧化铝（Al?O?）、氮化硼（PBN）
- 超高真空（UHV）兼容性：是，可烘烤至250°C
- 冷却液流量：Min1.0升/分钟
- 快门：手动或可选气动执行器
- 功率：单相100-240伏交流电，50/60赫兹
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