Nikalyte NEXUS物理气相沉积系统是一款超多功能的PVD（物理气相沉积）系统，能够生成纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。NL-FLEX可以容纳各种类型的基底，包括卷对卷、非平面和粉末涂层。它适用于广泛的应用领域，包括催化、光子学、能量存储、传感器和生命科学。这种模块化的PVD沉积系统可以与分析工具集成，为您提供定制化的研究解决方案。

Nikalyte NEXUS物理气相沉积系统是一种超高真空物理气相沉积（PVD）系统，能够同时生成纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。它适用于广泛的应用领域，包括催化、光子学、能量存储、传感器和生命科学。这种超高真空沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供定制化的解决方案。

关键特性：

·         通过结合纳米颗粒和薄膜生成复杂材料。

·         使用NL-UHV技术生产无烃纳米颗粒。

·         带有负载锁、烘烤和抽真空升级选项的超高真空系统。

·         涡轮分子泵/干式背抽泵组合。

·         最多可容纳5个源的共聚焦端口几何结构。

·         兼容第三方源。

·         提供旋转、加热和偏置选项的基底涂层。

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·         全自动化且由配方驱动的软件。

Nikalyte NEXUS物理气相沉积系统基本系统配置

• 沉积腔尺寸：450 mm
• 基础真空度：<5×10?? Torr
• 沉积方向：向上溅射
• 样品台：4英寸晶圆，20转/分钟旋转，Z轴移动用于样品装卸
• 抽真空系统：300升/秒涡轮分子泵，配备7.2立方米/小时干式前级泵
• 阀门：手动阀门、快门和线性驱动装置
• 控制软件：配方驱动工艺，电源控制和数据记录
• 原位监测：石英晶体微量天平用于工艺监测和终点检测
• 源端口：最多5个沉积源，2个共焦CF150和3个共焦CF100源端口
• 源类型：纳米颗粒源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟源、K型离子源、射频原子源可选配置：
• 5×10?? Torr基础真空度（配备烘烤选项）
• 样品台：
• 直流偏压用于纳米颗粒加速
• 射频偏压用于样品表面清洁
• 加热至800°C
• 抽真空系统：700升/秒涡轮分子泵
• 独立抽真空的装载锁和传输臂
• 系统烘烤
• 阀门、快门和线性驱动装置的自动化选项
• 在涡轮分子泵前设置可调节挡板，以增加动态压力范围，用于在较低气体流量下进行溅射