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1， 半导体制造工业 2， 设备应用 A. 曝光显影设备 (涂胶，显影) 光刻加工程序的主要设备及掌控涂层，曝光，显影。 B. 清洗、蚀刻设备 用于蚀刻，清洗，去膜设备。
C. 清洗设备 适用于 物理冲洗清洁、颗粒清洗刷子、声控及喷雾工艺。
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